英特尔首批两台 ASML 高数值孔径光刻机已投产，可靠性翻倍

此外，新型 ASML 光刻机通过光束在芯片上打印特征，能够在更少的曝光次数下完成与旧款机器相同的工作，从而节省时间和成本。卡森表示，英特尔工厂的早期结果显示，高 NA 光刻机仅需一次曝光和“个位数”的处理步骤，即可完成旧款机器需要三次曝光和约 40 个处理步骤的工作。英特尔计划利用高 NA 光刻机助力其 18A 制造技术的开发，该技术预计将于今年晚些时候与新一代 PC 芯片一同投入大规模生产。英特尔还计划在其下一代制造技术 14A 中全面使用高 NA 光刻机，但尚未公布该技术的大规模生产日期。